发明名称 |
一种阴极电弧离子镀膜设备的绝缘结构 |
摘要 |
本实用新型公开了一种阴极电弧离子镀膜设备的绝缘结构,包括真空室及设置于真空室外壁的阴极靶材,真空室与阴极靶材间设有用于彼此间绝缘联接的绝缘法兰,绝缘法兰的环内侧设有若干绝缘槽。此绝缘结构在真空室与阴极靶材间设置了绝缘法兰,并在绝缘法兰的环内侧设置了绝缘槽,能有效提高真空室与阴极靶材间的阻抗,且在绝缘法兰长时间使用后出现靶材成分沉积时,也不会造成绝缘槽两侧导通,从而在保证真空室与阴极靶材间高度绝缘的同时,能防止绝缘法兰在长时间使用后出现生成的沉积物导通真空室与阴极靶材的情况,此实用新型用于高新技术改造传统产业领域。 |
申请公布号 |
CN202492567U |
申请公布日期 |
2012.10.17 |
申请号 |
CN201220026545.6 |
申请日期 |
2012.01.20 |
申请人 |
广州今泰科技股份有限公司 |
发明人 |
苏东艺 |
分类号 |
C23C14/32(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/32(2006.01)I |
代理机构 |
广州市华学知识产权代理有限公司 44245 |
代理人 |
苏运贞 |
主权项 |
一种阴极电弧离子镀膜设备的绝缘结构,其特征在于:包括真空室(1)及设置于所述真空室(1)外壁的阴极靶材,所述真空室(1)与阴极靶材间设有用于彼此间绝缘联接的绝缘法兰(2),所述绝缘法兰(2)的环内侧设有若干绝缘槽(3)。 |
地址 |
510730 广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城南云二路8号品尧电子产业园门机大楼(C座)首、二层 |