用于等离子体处理设备的前馈温度控制

摘要

用于利用减小的控制器响应时间和增加的稳定性来控制等离子体处理室中的温度的方法和设备。温度控制至少部分地基于从进入等离子体处理室的等离子体功率输入得到的前馈控制信号。对于归因于等离子体功率的温度干扰进行补偿的前馈控制信号可以与消除所测量的温度与期望温度之间的误差的反馈控制信号结合。

主权项

一种用于在工件的等离子处理期间控制处理温度的方法，包括：确定输入到处理室的等离子体功率，所述处理室在所述工件上执行等离子体处理；以及基于输入的等离子体功率，利用前馈控制信号控制在所述处理室中的温度。