发明名称 掺杂单元、掺杂晶片、掺杂方法、电池及制作方法
摘要 本发明公开了一种掺杂单元包括:一N型基底;形成于该N型基底背面中的P型重掺杂区域以及N型重掺杂区域;形成于该P型重掺杂区域周围的P型轻掺杂区域;其中,该N型重掺杂区域与该P型重掺杂区域以及该N型重掺杂区域与该P型轻掺杂区域互不接触,其中,所述的P型替换为N型时,N型同时替换为P型。本发明公开了一种掺杂晶片、掺杂方法、太阳能电池以及太阳能电池的制作方法。本发明中P型重掺杂区域与N型重掺杂区域之间具有N型基底材料和P型轻掺杂区域作为缓冲层,使得PN结之间不会因为耗尽层太薄而导致被击穿,由此形成的P+/P-/N/N+结构的PN结使得载流子的迁移更均匀,速率更稳定,由此提高了该掺杂晶片的使用寿命。
申请公布号 CN102738263A 申请公布日期 2012.10.17
申请号 CN201110095570.X 申请日期 2011.04.15
申请人 上海凯世通半导体有限公司 发明人 陈炯;钱锋;洪俊华
分类号 H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/068(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/0352(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 薛琦;朱水平
主权项 一种掺杂单元,其特征在于,该掺杂单元包括:‑N型基底;形成于该N型基底背面中的P型重掺杂区域以及N型重掺杂区域;形成于该P型重掺杂区域周围的P型轻掺杂区域;其中,该N型重掺杂区域与该P型重掺杂区域互不接触,以及该N型重掺杂区域与该P型轻掺杂区域互不接触,其中,所述的P型替换为N型时,N型同时替换为P型。
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