发明名称 |
一种可调控介质层磁性的阻变存储器 |
摘要 |
本发明公开了一种可调控介质层磁性的阻变存储器。该阻变存储其包括底电极、顶电极以及位于所述底电极和顶电极之间的介质层;其中,所述底电极和顶电极均为铂电极或者金电极;所述介质层为过渡金属Co、Fe和Ni等掺杂的氧化锌高阻态稀磁氧化物薄膜,该具有稀磁特性的ZnO薄膜由下述原子百分数的元素组成:过渡金属为1.0~3.0at.﹪,Zn为47.0~49.0at.﹪,其余为O。采用阻变的方式调控ZnO基稀磁氧化物存储介质层磁性的变化,这种磁性强弱的变化可以用作信息的存储,增加了信息存储的维度。 |
申请公布号 |
CN102738391A |
申请公布日期 |
2012.10.17 |
申请号 |
CN201210186988.6 |
申请日期 |
2012.06.07 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
宋成;潘峰;陈光;彭晶晶 |
分类号 |
H01L45/00(2006.01)I;H01L27/24(2006.01)I;G11C13/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L45/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 |
代理人 |
关畅 |
主权项 |
一种可调控介质层磁性的阻变存储器,包括底电极、顶电极以及位于所述底电极和顶电极之间的介质层;其特征在于:所述介质层为过渡金属掺杂的氧化锌薄膜。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园1号清华大学 |