化学气相沉积装置

摘要

一种化学气相沉积装置，包括一个基片托盘与旋转轴的同步旋转装置。旋转轴顶部的连接头与基片托盘在基片托盘的底部中心连接，旋转轴通过位于连接头顶部接触带的摩擦力驱动基片托盘旋转。旋转轴顶部和托盘底面之间还包括一个同步运动配合结构，所述同步运动配合结构包括一个突出部和一个与之对应的凹槽，其中所述突出部与凹槽对应的内周壁具有一同步表面，在基片托盘与旋转轴相对转动时，所述同步表面与凹槽内周壁接触以阻止二者进一步相对位移。

主权项

一种化学气相沉积装置，其特征在于：包括：处理腔室，其内部包括一个旋转轴，旋转轴上可分离地放置有基片托盘，基片托盘的下表面包括一凹槽，所述旋转轴包括一顶部，所述顶部可分离地插接于所述凹槽内，所述基片托盘至少部分地受所述顶部支撑并通过二者之间的摩擦力使所述基片托盘围绕所述旋转轴的中心轴线转动；所述旋转轴顶部与基片托盘上还包括一个同步运动配合结构，所述同步运动配合结构包括一个突出部和一个与之对应配合连接的凹陷部，所述突出部和所述凹陷部分别设置在所述旋转轴的顶部和所述基片托盘的下表面上或相反设置；其中，当所述基片托盘受其与所述顶部之间的摩擦力驱动而围绕所述旋转轴的中心轴线转动时，所述突出部和所述凹陷部相互配合并保持所述基片托盘和所述旋转轴同步转动。