| 发明名称 | 腔室装置和具有它的基片处理设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种腔室装置，包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有腔室；和第一热电冷却部件，所述第一热电冷却部件的冷端邻近所述腔室本体的至少一部分外表面而设置以冷却所述腔室本体，且所述第一热电冷却部件的热端远离所述腔室本体的至少一部分外表面而设置。本发明还提供了一种具有上述腔室装置的基片处理设备。本发明采用热电冷却部件对腔室本体进行冷却，设计加工简单，冷却效果好，改善了安全性和可维护性。 | ||
| 申请公布号 | CN102732853A | 申请公布日期 | 2012.10.17 |
| 申请号 | CN201110088702.6 | 申请日期 | 2011.04.08 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 徐亚伟 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人 | 张大威 |
| 主权项 | 一种腔室装置，包括腔室本体和进气部件，所述腔室本体内限定有腔室，所述进气部件设在所述腔室本体上用于向所述腔室内供气，其特征在于，还包括第一热电冷却部件，所述第一热电冷却部件的冷端邻近所述腔室本体的至少一部分外表面而设置以冷却所述腔室本体，且所述第一热电冷却部件的热端远离所述腔室本体的至少一部分外表面而设置。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||