| 发明名称 | 采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法。该方法包括：制备氧化物喷涂材料；将制备的氧化物喷涂材料置入等离子炬中，装配阴极基底至喷涂模具；在等离子炬中的等离子气氛下加热氧化物喷涂材料，使氧化物喷涂材料撞击并附着在阴极基底上，形成氧化物阴极。本发明采用等离子喷涂制备氧化物阴极，所制备的氧化物阴极中不会残留有害物质，从而提升了微波管的性能。 | ||
| 申请公布号 | CN102737924A | 申请公布日期 | 2012.10.17 |
| 申请号 | CN201110086195.2 | 申请日期 | 2011.04.07 |
| 申请人 | 中国科学院电子学研究所 | 发明人 | 张敏;王小霞;罗积润;赵庆兰;廖显恒 |
| 分类号 | H01J9/02(2006.01)I;C23C4/12(2006.01)I;C23C4/10(2006.01)I | 主分类号 | H01J9/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 周国城 |
| 主权项 | 一种采用等离子喷涂制备氧化物阴极的方法，其特征在于，该方法包括：制备氧化物喷涂材料；将制备的所述氧化物喷涂材料置入等离子炬中，装配阴极基底至喷涂模具；在所述等离子炬中的等离子气氛下加热所述氧化物喷涂材料，使所述氧化物喷涂材料撞击并附着在所述阴极基底上，形成氧化物阴极。 | ||
| 地址 | 100190 北京市海淀区北四环西路19号 | ||