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发明名称 Polymer for photoresist and photoresist composition including the same
摘要
申请公布号 KR101190527(B1) 申请公布日期 2012.10.16
申请号 KR20050074435 申请日期 2005.08.12
申请人 发明人
分类号 G03F7/039;G03F7/004 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
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