发明名称 在通过设备中将平坦物作无接触式处理的方法与装置
摘要 一种在湿化学通过设备中将平坦物--特别是电路板与导体膜作无接触式运送及处理的方法与装置,该平坦物作水平运送。略倾斜的运送滚子将该平坦物边缘拿住,且在运送时将该平坦物张紧。在薄导体膜的场合,要作无碍的运送,所需的张力可能很大,使得细导线技术所需的尺寸准确度(MaBhaltigkeit)会丧失。在适当的张力的场合,依此方法,要达到所需的运送安全性,系将电解质流(8)呈镜像对称方式沿运送方向(3)朝向该平坦物(1)。在具有盲孔的电路板的结合,另外将电解质(11)以镜像对称方式近乎垂直地朝向该平坦物(1)。为了进一步使贯通孔流通,故使该平坦物的两面在电解质中依板努力原理产生静压差。
申请公布号 TWI374199 申请公布日期 2012.10.11
申请号 TW093133721 申请日期 2004.11.05
申请人 霍尔慕勒机械工程公司 发明人 托马斯 寇西可斯奇
分类号 C25D17/28 主分类号 C25D17/28
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种在湿化学式及/或电解式通过设备中在电解质中将平坦物作无接触式运送与处理的方法,将该平坦物作水平运送,该平坦物宜为导体膜及电路板,利用倾斜设置且受压迫的运送-及接触滚子作运送,该运送-及接触滚子将平坦物二边缘夹住并在其上滚动,垂直于运送方向张紧并将之运送,其特征在:作用到该平坦物上的张力调整成很小,使得即使在导体膜的场合,其尺寸准确度也不会丧失,且该平坦物在运送平面中通过电解质流(8),该电解质流系呈镜像对称方式从电解质喷洒管(10)中的一列第一组开口(9)流到平坦物的上侧与下侧,其中电解质的流出方向系可帮助将平坦物沿运送方向行进者,且该电解质流(8)从具有个别开口(9)的成对设置的电解质喷洒管流出,该开口在平坦物上下侧互相错开,故在该上、下侧的表面交替地产生互相反向的局部区域,它们交替地有小的电解质的静压力及大的静压,该小与大的静压造成在平坦物的中贯通孔被电解质流过,且同时与电解质流相关的力量在平坦物上下侧互相抵销,如此即使薄导体膜也可在输送路径上安全地运送。如申请专利范围第1项之方法,其中:该两侧的电解质喷洒管(10)设有至少各另一列开口(12),电解质由该开口向平坦物的方向以一角度β流出,此角度β与该第一列开口(9)的角度α不同,且此电解质流(11)与第一列的第一种电解质流(8)互不相干地在流出的电解质量与流速作改变,且可配合平坦物的需求。如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:该在平坦物两侧第一种电解质流(8)有助于该平坦物运送,该电解质流以一角度α相对于运送平面从电解质喷洒管流出,此角度在5°~60°范围中,且宜为15°。如申请专利范围第2项之方法,其中:该平坦物系受第二电解质流(11)作用在其两端而帮助该平坦物作运送,该电解质流相对于运送平面呈一角度α从该电解质喷洒管出来,该角度在60°~90°范围,且宜为80°。如申请专利范围第2项之方法,其中:该第一及第二电解质流的体积流与流速可互相独立地将其密集度作调整并配合平坦的需求。如申请专利范围第2项之方法,其中:该平坦物沿运送路径的处理时间用以下方式加长利用较不占空间的「管中管」的设置,将第一及第二电解质流从一结构元件流出。如申请专利范围第1或第2项之装置,其中:该运送滚子的轴倾斜一角度γ,该角度不大于1.5°,以避免太大的张力作用到该平坦物上。如申请专利范围第1或第2项之装置,其中:该作用到平坦物上的张力藉着调整该作用到运送滚子的轴上的力量F而配合该平坦物之尺寸准确度及运送安全性方面的需求。如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:该平坦物的电解质处理系利用可溶或不溶的阳极达成。一种在湿化学式或电解质式通过设备将平坦物的使用区域在电解质中作无接触式通过处理的装置,其中将该平坦物作水平运送,该平坦物特别是导体膜与电路板,利用倾斜设置且受压迫的运送-及接触滚子作运送,该运送-及接触滚子将平坦物二边缘夹住并在其上滚动,垂直于运送方向张紧及作运送,此装置系用于实施申请专利范围第1项之方法者,其特征在:该运送-及接触滚子的倾斜位置与压迫力量F调整成很小,使得即使在导体膜的场合也不会丧失其尺寸准确度,而此有电解质喷洒管(10),与平坦物的运送方向成横向且成对设置,并且在运送平面(20)与下侧各有一列开口(9),其中这些开口的朝向使该二组电解质喷洒管(10)的电解质流呈镜像对称沿运送方向呈一角度α流出,使该两侧(6)(7)的电解质(8)以相同的冲力作用到平坦物而反向互相抵消。如申请专利范围第10项之装置,其中:该电解质喷洒管中有一列的第二组开口(12),其中第二电解质流(11)的流出角度β与第一电解质流(8)的流出角度α不同。如申请专利范围第10项之装置,其中:在电解质喷洒管中的第一组开口(9)互相隔一距离,这些开口在上侧(6)与下侧(7)互相错开了同组之开口之间的一半距离,以在表面产生具有交替的电解质小静压力与大筛压力的区域。如申请专利范围第10项之装置,其中:该第一电解质流(8)相对于平坦物表面的角度α在5°~60°范围,且宜为15°。如申请专利范围第10项之装置,其中:该第二电解质流(11)相对于平坦物表面的角度β在70°~90°范围,且宜为80°。如申请专利范围第10项之装置,其中:该电解质喷洒管(10)做成「管中管」形式,该列第一组开口(9)设在外管中,而该内管(13)具有第二组开口(12),该第二组开口(12)同时通过外管的壁。如申请专利范围第10项之装置,其中:具有个别影响电解质流(8)(11)的手段,呈泵、阀、翻盖片、移动器、积滞移动器。如申请专利范围第10项之装置,其中:该轴(4)的角度γ在0.05°~1.5°范围,且宜为0.2°。如申请专利范围第10项之装置,其中:有一力量F的调整装置,作用到运送滚子(2)的轴(4)。如申请专利范围第10项之装置,其中:在电解质通过设备中有可溶或不溶的阳极。如申请专利范围第10项之装置,其中:有一对第一电解质喷洒管以喷洒第一种电解质流(8),且有一对与该第一电解质喷洒管分开设置的第二电解质喷洒管以喷洒第二种电解质流。
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