基板处理装置

摘要

本发明之课题在提供一种可抑制基板上方之雾气发生的基板处理装置。;本发明之基板处理装置系具备有：以水平保持基板，可连同基板一起旋转的基板保持部(2)；使基板保持部(2)旋转的旋转机构；对基板供给处理液的处理液供给机构；在基板保持部(2)的外侧，以围绕被保持在该基板保持部(2)的基板的方式而设，连同基板保持部(2)一起旋转，具有接收由所旋转的基板被甩脱的处理液的壁部(32)的旋转杯(4)；在旋转杯(4)的外侧，以围绕该旋转杯(4)及基板保持部(2)的方式而设，具备有：收容由所旋转的基板被甩脱的处理液的环状液体收容部(56)、及设在比该环状液体收容部(56)更为内侧的内侧环状空间(99b)的排气及排液杯(201)；及与排气及排液杯(201)之内侧环状空间(99b)相连接的排气机构(200)。

主权项

一种基板处理装置，其特征为具备有：以水平保持基板，可连同基板一起旋转的基板保持部；使前述基板保持部旋转的旋转机构；对基板供给处理液的处理液供给机构；在前述基板保持部的外侧，以围绕被保持在该基板保持部的基板的方式而设，连同前述基板保持部一起旋转，具有接收由所旋转的基板被甩脱的处理液的壁部的旋转杯；在前述旋转杯的外侧，以围绕该旋转杯及前述基板保持部的方式而设，具备有：收容由前述所旋转的基板被甩脱的处理液的环状液体收容部、及设在比该环状液体收容部更为内侧的内侧环状空间的排气及排液杯；及与前述排气及排液杯之内侧环状空间相连接的排气机构，前述排气及排液杯系另外具备有设在前述液体收容部的下方且与前述内侧环状空间的全周相连通的下部环状空间，前述下部环状空间系形成在液体收容部与排气及排液杯的底壁部之间，前述排气机构系经由前述下部环状空间而与前述内侧环状空间相连接。如申请专利范围第1项之基板处理装置，其中，在前述下部环状空间的上部形成有与前述基板保持部相对向之至少1个通气孔。如申请专利范围第2项之基板处理装置，其中，前述通气孔有复数个，该等复数个通气孔系以环状排列形成在前述下部环状空间的上部。一种基板处理装置，其特征为具备有：以水平保持基板，可连同基板一起旋转的基板保持部；使前述基板保持部旋转的旋转机构；对基板供给处理液的处理液供给机构；在前述基板保持部的外侧，以围绕被保持在该基板保持部的基板的方式而设，连同前述基板保持部一起旋转，具有接收由所旋转的基板被甩脱的处理液的壁部的旋转杯；在前述旋转杯的外侧，以围绕该旋转杯及前述基板保持部的方式而设，具备有：底壁部；沿着该底壁部的外周而形成的环状外壁部；及形成在比该环状外壁部更为内侧的环状内壁部的排气杯；在前述排气杯的内侧，围绕前述旋转杯及前述基板保持部，而且以在与前述排气杯之底壁部之间形成下部环状空间，在与前述排气杯之环状外壁部之间形成外侧环状空间，在与前述排气杯之环状内壁部之间形成内侧环状空间的方式而设，具备有用以收容由前述所旋转的基板被甩脱的处理液的环状液体收容部的排液杯；与前述下部环状空间相连接的排气机构；及配置在前述下部环状空间与前述外侧环状空间之间的气流调整构件，在与前述下部环状空间的上部相对应的前述排液杯的部分形成有与前述基板保持部相对向之至少1个通气孔。如申请专利范围第4项之基板处理装置，其中，前述通气孔有复数个，该等复数个通气孔系以环状排列形成在与前述下部环状空间的上部相对应的前述排液杯的部分。如申请专利范围第4项之基板处理装置，其中，前述气流调整构件具备有使前述下部环状空间与前述外侧环状空间相连通的复数个通气孔。如申请专利范围第4项之基板处理装置，其中，前述气流调整构件系遮断前述下部环状空间与前述外侧环状空间。如申请专利范围第4项之基板处理装置，其中，前述气流调整构件为可更换，藉由更换该气流调整构件，可选择使前述下部环状空间与前述外侧环状空间相连通、及将前述下部环状空间与前述外侧环状空间遮断之任一者。如申请专利范围第4项之基板处理装置，其中，在前述环状外壁部上具有以覆盖前述排液杯之上方的方式而设的上侧壁，前述上侧壁系闭塞前述外侧环状空间。