| 主权项 |
一种可录型光学记录媒体，其包含：无机记录层；第一保护层，包含氧化铟以及氧化锡作为主要成分，上述第一保护层被设置在上述无机记录层的表面中的与用于记录及/或再生用的雷射光入射到其上的表面相反的表面上；第二保护层，包含氧化铟以及氧化锡作为主要成分，上述第二保护层设置在上述无机记录层的表面中的用于记录及/或再生用的雷射光入射到其上的表面上；以及蓄热层，其设置在上述无机记录层以及上述第一保护层之间，并与上述无机记录层以及第一保护层邻接，其中，上述蓄热层具有比上述第一保护层的导热率低的导热率。如请求项1之可录型光学记录媒体，其中上述蓄热层以ZnS及SiO2作为主成分。如请求项1之可录型光学记录媒体，其中当以d1来表示上述第一保护层的厚度，而以d2来表示上述蓄热层的厚度时，该等厚度d1和d2满足0.07≦d2/(d1+d2)≦0.95之关系。如请求项1之可录型光学记录媒体，其中上述无机记录层包含ZnS、SiO2以及Sb作为主成分。如请求项4之可录型光学记录媒体，其中上述无机记录层包含选自由Ga、Te、V、Si、Zn、Ta、Ge、In、Cr、Sn以及Tb所组成之群中的至少一种元素。如请求项4之可录型光学记录媒体，其中上述无机记录层具有满足下述式(1)之组成： [(ZnS)x(SiO2)1-x]y(SbzX1-z)1-y………(1)其中，0<x≦1.0、0.3≦y≦0.7、以及0.8<z≦1.0，并且X为选自由Ga、Te、V、Si、Zn、Ta、Ge、In、Cr、Sn以及Tb所组成之群中的至少一种元素。如请求项1之可录型光学记录媒体，其中上述无机记录层的厚度为3nm以上40nm以下。如请求项1之可录型光学记录媒体，其中上述无机记录层包含Te以及Pd作为主成分。一种可录型光学记录媒体的制造方法，包括：形成包含氧化铟以及氧化锡作为主成分的第一保护层的步骤；形成蓄热层的步骤；形成无机记录层的步骤；以及形成包含氧化铟以及氧化锡作为主成分的第二保护层的步骤；其中，上述第一保护层设置在上述无机保护层的表面中的与用于记录及/或再生用的雷射光入射到其上的表面相反的表面上，上述第二保护层设置在上述无机记录层的表面中的用于记录及/或再生用的雷射光入射到其上的表面上，并且其中，在形成上述第一保护层的步骤以及形成上述第二保护层的步骤中，上述第一保护层以及上述第二保护层藉由直流溅镀法形成，上述蓄热层设置在上述无机记录层以及上述第一保护层之间，并与上述无机记录层以及上述第一保护层邻接，其中，上述蓄热层具有比上述第一保护层的导热率低的导热率。 |
