基材固持设备

摘要

本发明有关于一种用于离子植入机之基材固持设备。特别地，本发明有关于一种基材固持系统，其包含两个或更多个可交换位置之基材固持器，藉此使得一基材固持器利用通过一离子束来扫瞄一基材，同时多个基材可以在其他固持器上被替换。基材固持器组件包含：一基座，其可以绕着一第一轴旋转；以及至少两支撑臂，其从该基座延伸至设置有基材固持器之末端。基座之旋转使得基材固持器可以在多个指定的位置之间移动。一指定位置系对应于一用以植入基材之位置，并且另一指定位置系对应于一载入/卸载站。

主权项

一种在一离子植入机中用以固持一将于植入期间暴露于一离子束之基材的基材固持器组件，该基材固持器组件至少包含：一基座，其可以绕着一第一旋转轴而旋转；至少两支撑臂，其以和该第一旋转轴实质上平行的方式从该基座延伸至设置有多个基材固持器之末端；其中该基座之旋转使得该些基材固持器可以采用多个指定的位置，该至少两支撑臂从该基座上取代该第一旋转轴的点处开始延伸实质上等距离且分隔一实质上相等的分离角度，从而以该分离角旋转该基座时可使得该些支撑臂在该些指定位置之间移动。如申请专利范围第1项所述之基材固持器组件，其中该至少两支撑臂可以绕着其纵向轴旋转。如申请专利范围第1项所述之基材固持器组件，其中每一基材固持器具有一支撑表面以支撑基材，该支撑表面可以绕着其中心轴旋转。如申请专利范围第3项所述之基材固持器组件，其中该支撑表面之中心轴系实质上正交于该支撑臂之纵向轴。如申请专利范围第1项所述之基材固持器组件，其中该至少两支撑臂可以沿着其纵向轴移动，从而可以改变每一基材固持器与该基座间之距离。一种离子植入机，其至少包含：一离子源；一光学装置，其可操作以导引由该离子源产生的多个离子沿着一离子束路径行进至一制程腔室以植入到基材中；一基材传送机构；以及如申请专利范围第1项所述之基材固持器组件，其位置系可以固持基材于该制程腔室中，从而使该至少两支撑臂系实质上正交于离子束路径而延伸；其中一第一指定位置系对应于面向离子束之基材固持器，并且一第二指定位置系对应于在离子束路径之外且与该基材传送机构合作之基材固持器，藉此使得基材可以被置放在该基材固持器上且从该基材固持器移除。如申请专利范围第6项所述之离子植入机，其中该至少两支撑臂可以绕着其纵向轴旋转。如申请专利范围第6项所述之离子植入机，其中每一基材固持器具有一支撑表面以支撑基材，该支撑表面可以绕着其中心轴旋转。如申请专利范围第8项所述之离子植入机，其中该支撑表面之中心轴系实质上正交于该支撑臂之纵向轴。如申请专利范围第6项所述之离子植入机，其中该至少两支撑臂可以沿着其纵向轴移动，从而可以改变每一基材固持器与该基座间之距离。如申请专利范围第10项所述之离子植入机，其中该基座具有一联合的扫瞄单元，其可操作以沿着其纵向轴往复地扫瞄该支撑臂。如申请专利范围第11项所述之离子植入机，其中该扫瞄单元可操作，以在实质上正交于该支撑臂之纵向轴及离子束路径两者的方向上扫瞄该支撑臂。如申请专利范围第12项所述之离子植入机，其中该扫瞄单元可操作，以扫瞄该支撑臂，从而离子束可以跟随一光栅图案而横越当被该基材固持器所固持时之基材。