Die Erfindung betrifft eine Plasmaeinrichtung (1) mit einer Plasmaquelle (3) zur Erzeugung eines Plasmas. Sie ist gekennzeichnet durch ein Kapillar-Element (19) mit einem Grundkörper (21), der Durchgangskanäle (23) aufweist, wobei das Kapillar-Element (19) im Diffusionspfad des von der Plasmaquelle (3) generierten Plasmas (13) angeordnet ist.
申请公布号
DE102011017249(A1)
申请公布日期
2012.10.11
申请号
DE20111017249
申请日期
2011.04.07
申请人
MAX-PLANCK-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER WISSENSCHAFTEN E.V.
