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Gegenstand der Erfindung ist ein Substratträger zum Transport und zur Halterung von Substraten bei der Beschichtung in Plasmakammern. Der Substratträger besteht aus einem bis 800°C formstabilen Material und weist Längsstreben und Querstreben auf, die eine Mehrzahl von Öffnungen umgeben, in die Substrate eingelegt und entlang der Kanten der Längs- uen auf der Unterseite an den Kanten so abgestützt, dass ein Plasmaumgriff reduziert ist. Die Unter- und/oder die Oberseiten einer oder mehrerer der Querstreben weisen eine Formgebung auf, die einen Gas- und Plasmafluss quer zur Transportrichtung des Substrats unterstützt. |
