发明名称 太阳能电池扩散方法
摘要 本发明涉及一种太阳能电池扩散方法,其特征在于它包括以下工艺步骤:步骤一、第一次氧化;步骤二、扩散;步骤三、第二次氧化。且步骤二扩散分为第一次扩散、第二次扩散以及第三次扩散。本发明太阳能电池扩散方法,以P型硅片为扩散源衬底,扩散阶段经过三步分步扩散,小氮和氧气的通入流量从大到小,通入时间从长到短,将三步的磷源浓度由高到低驱入衬底,使得表面浓度逐渐减少,降低表面复合及缺陷浓度,并形成梯度掺杂,拓宽P-N结区的宽度,提高开路电压;同时较深的结深,可以降低串联电阻,提升太阳电池转换效率。该太阳能电池扩散方法具有无需增加工序,成本较低,能够增加晶体硅太阳电池的转换效率的优点。
申请公布号 CN102723266A 申请公布日期 2012.10.10
申请号 CN201210201536.0 申请日期 2012.06.19
申请人 江苏泓源光电科技有限公司 发明人 闫循磊;杨贵忠;许谦
分类号 H01L21/223(2006.01)I 主分类号 H01L21/223(2006.01)I
代理机构 江阴市同盛专利事务所 32210 代理人 唐纫兰;曾丹
主权项 一种太阳能电池扩散方法,其特征在于它包括以下工艺步骤:步骤一、第一次氧化将硅片放入扩散炉中,扩散炉升温到800~820℃,向扩散炉内通入氧气,氧气流量为10~12slm,通入氧气的时间为13~15min,对硅片表面进行第一次氧化反应;步骤二、扩散2.1、第一次扩散扩散炉升温到835~845℃,向扩散炉内通入携三氯氧磷的小氮、大氮以及氧气组成的混合气体,所述小氮的流量为1.0~1.2slm,所述大氮的流量为8 ~10 slm,所述氧气的流量为1.2~1.5slm,通入混合气体的时间为5~7min,在硅片表面进行第一次扩散反应;2.2、第二次扩散扩散炉升温到845~855℃,向扩散炉内通入携三氯氧磷的小氮、大氮以及氧气组成的混合气体,所述小氮的流量为0.8~1.0 slm,所述大氮的流量为8 ~10 slm,所述氧气的流量为1.0~1.2slm,通入混合气体的时间为4~6min,在硅片表面进行第二次扩散反应;2.3、第三次扩散扩散炉升温到855~865℃,向扩散炉内通入携三氯氧磷的小氮、大氮以及氧气组成的混合气体,所述小氮的流量为0.6~0.8 slm,所述大氮的流量为8 ~10 slm,所述氧气的流量为0.8~1.0slm,通入混合气体的时间为3~5min,在硅片表面进行第三次扩散反应;步骤三、第二次氧化扩散炉升温到860~880℃,向扩散炉内通入大氮以及氧气组成的混合气体,所述大氮的流量为8 ~12slm,所述氧气的流量为10~13slm,通入混合气体的时间为3~5min,在硅片表面进行第二次氧化反应。
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