发明名称 |
半导体装置 |
摘要 |
本发明的一个方面在于一种半导体装置,其包含半导体区域、设置在该半导体区域的主表面上的源极电极和漏极电极、具有常关闭特性的栅极电极,该栅极电极设置在该半导体区域的主表面上同时在其间插入p型材料膜,并且该栅极电极排列在该源极电极和该漏极电极之间,以及第四电极,其设置在该半导体区域的主表面上,并且排列在该栅极电极和该漏极电极之间。 |
申请公布号 |
CN101789445B |
申请公布日期 |
2012.10.10 |
申请号 |
CN200911000022.3 |
申请日期 |
2009.12.21 |
申请人 |
三垦电气株式会社 |
发明人 |
町田修;岩渕昭夫 |
分类号 |
H01L29/778(2006.01)I;H01L29/808(2006.01)I;H01L27/07(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/778(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
钟晶 |
主权项 |
一种半导体装置,其包含:半导体区域;源极电极和漏极电极,所述源极电极和漏极电极设置在所述半导体区域的主表面上;栅极电极,其具有常关闭特性,所述栅极电极设置在所述半导体区域的主表面上同时在其间插入p型材料膜,并且所述栅极电极排列在所述源极电极和所述漏极电极之间;以及第四电极,其设置在所述半导体区域的主表面上,并且所述第四电极排列在所述栅极电极和所述漏极电极之间;其中,所述源极电极和所述第四电极互相电连接,并且,所述第四电极设置在所述半导体区域的主表面上同时在其间插入所述p型材料膜。 |
地址 |
日本埼玉县 |