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一种基于可控摆系统的双轴水平稳定平台，其特征在于：所述的双轴水平稳定平台包括机械装置和控制器；所述的机械装置包括可控摆系统A、可控摆系统B、台体、外框架、控制电机A、控制电机B和基座；所述的台体和外框架的中心均为空间任意直角坐标系的坐标原点O，且台体和外框架的平面与z轴方向垂直；台体处于外框架的中心位置；所述的台体边缘与x轴的正负轴方向的交点分别为端点A1和端点B1，与y轴的正负轴方向的交点分别为端点C1和端点D1；通过连接装置将可控摆系统A连接在端点A1和端点B1之间，使可控摆系统A的物理摆能够绕y轴单自由度转动；通过连接装置将可控摆系统B连接在端点C1和端点D1之间，使可控摆系统B的物理摆能够绕x轴单自由度转动；所述的外框架与x轴的正负轴的交点分别为端点A2和端点B2，外框架与y轴的正负轴的交点分别为端点C2和端点D2；通过连接装置将端点D1和端点D2连接，通过连接装置将端点C1和端点C2连接，并在端点C2处设置有控制电机A，驱动台体相对外框架围绕y轴转动；基座中心位于坐标系的原点O处，基座平面与y轴方向垂直，外框架位于基座内；所述的基座与x轴的正负轴方向的交点分别为端点A3和端点B3，与z轴的正负轴方向的交点分别为端点C3和端点D3；通过连接装置将端点C3和外接载体的顶端固定连接，通过连接装置将端点D3和外接载体的底端固定连接；通过连接装置将端点B2和端点B3连接，通过连接装置将端点A2和端点A3连接，在端点处A3设置有控制电机B，驱动外框架相对基座围绕x轴转动，从而带动台体相对基座围绕x轴转动；所述的控制器通过导线分别与可控摆系统A和可控摆系统B连接；所述的控制器还通过导线分别与控制电机A和控制电机B连接；所述的可控摆系统A和可控摆系统B均由物理摆、滑块、导轨、直流力矩电机、角位移传感器A、角位移传感器B、传动带、转动盘A和转动盘B组成；所述的角位移传感器A、角位移传感器B和直流力矩电机通过导线均与控制器相连；所述的导轨安装在直流力矩电机和角位移传感器B之间；所述的角位移传感器B和直流力矩电机分别设置在转动盘A和转动盘B的中心位置处，并且角位移传感器B和直流力矩电机的转轴分别与转动盘A和转动盘B的转轴相连，所述的传动带套在转动盘A和转动盘B上，所述的滑块两侧连接传动带，且滑块的底部位于导轨上，所述的滑块上固定有角位移传感器A，物理摆悬挂于角位移传感器A的转轴上。 |
