| 摘要 |
1. Устройство для нанесения атомного слоя на поверхность подложки, причем устройство включает в себя инжекторную головку для прекурсора, где инжекторная головка для прекурсора содержит систему подачи прекурсора и пространство нанесения, которое при использовании ограничивается инжекторной головкой для прекурсора и поверхностью подложки, при этом инжекторная головка для прекурсора приспособлена для инжекции газообразного прекурсора из системы подачи прекурсора в пространство нанесения для контакта с поверхностью подложки, причем устройство приспособлено для относительного перемещения между пространством перенесения и подложкой в плоскости поверхности подложки, и устройство снабжено удерживающей структурой, предназначенной для удерживания введенного газообразного прекурсора в пространстве нанесения, прилегающем к поверхности подложки. ! 2. Устройство по п.1, которое приспособлено также для относительного перемещения между инжекторной головкой для прекурсора и подложкой в плоскости вне поверхности подложки, причем инжекторная головка для прекурсора содержит также газовый инжектор для инжекции газа между инжекторной головкой для прекурсора и поверхностью подложки, где газовый инжектор образован газонесущим инжектором для создания газосодержащего слоя, а газонесущий инжектор отделен от системы подачи прекурсора. ! 3. Устройство по п.2, приспособленное для приложения усилия предварительного напряжения к инжекторной головке для прекурсора, обращенной к поверхности подложки, где газовый инжектор приспособлен для противодействия усилию предварительного напряжения за счет регулирования давле |
