发明名称 用于低折射层的涂层组合物、使用其的抗反射膜以及包括所述抗反射膜的图像显示装置
摘要 本发明披露了一种用于形成低折射率层的涂层组合物,使用上述涂层组合物的抗反射膜,以及包括该抗反射膜的图像显示装置。详细地讲,本发明提供了:一种涂层组合物,其包括氟化合物、活性硅化合物、(甲基)丙烯酸酯化合物、聚合引发剂、以及溶剂;使用该涂层组合物的抗反射膜;以及包括该抗反射膜的图像显示装置。利用上述涂层组合物,可以提供具有低反射比和高透射比并且呈现足够的防污性能和高耐久性的抗反射膜,以及提供包括该膜的图像显示装置。
申请公布号 CN101511955B 申请公布日期 2012.10.10
申请号 CN200680055867.0 申请日期 2006.12.21
申请人 第一毛织株式会社 发明人 成允贞;姜景求;林亨泰;李莹哲
分类号 C09D127/12(2006.01)I;C09D4/02(2006.01)I;C09D133/10(2006.01)I;C09D183/04(2006.01)I;C08L27/12(2006.01)I;C08L33/10(2006.01)I;C08L83/04(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;C08F20/22(2006.01)I 主分类号 C09D127/12(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 章社杲;张英
主权项 1.一种用于形成低折射率层的涂层组合物,包含:(a)由以下化学式1表示的氟化合物;(b)活性硅化合物;(c)(甲基)丙烯酸酯化合物;(d)聚合引发剂;以及(e)溶剂:化学式1(CH<sub>2</sub>=CR<sup>1</sup>COO)<sub>2</sub>R<sup>f</sup>其中R<sup>f</sup>是C<sub>1-19</sub>全氟代基团,而R<sup>1</sup>是氢原子或甲基,其中,所述化学式1中的R<sup>f</sup>由以下化学式2表示:化学式2<img file="FSB00000821687900011.GIF" wi="928" he="580" />其中R<sup>f1</sup>是直链C<sub>1-10</sub>全氟代基团,而R<sup>f2</sup>、R<sup>f3</sup>、R<sup>f4</sup>、以及R<sup>f5</sup>各自是直链C<sub>1-14</sub>全氟代基团,其中,基于100重量份的所述组合物的固体含量,所述组合物包括:(a)70-95重量份的由化学式1表示的所述氟化合物;(b)0.1-15重量份的所述活性硅化合物;(c)1-20重量份的所述(甲基)丙烯酸酯化合物;以及(d)0.1-10重量份的所述聚合引发剂,其中,所述硅化合物由以下化学式5或6表示:化学式5<img file="FSB00000821687900021.GIF" wi="657" he="220" />其中彼此相同或不同的X<sup>1</sup>、X<sup>2</sup>、以及X<sup>3</sup>各自是氢或甲基,彼此相同或不同的R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>的至少之一是可固化活性基团,以及c是3至1000的整数;或化学式6<img file="FSB00000821687900022.GIF" wi="650" he="229" />其中彼此相同或不同的X<sup>1</sup>和X<sup>2</sup>各自是氢或甲基,彼此相同或不同的R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>中的至少之一是可固化活性基团,以及c是3至1000的整数。
地址 韩国庆尚北道
您可能感兴趣的专利