| 发明名称 | 用于对构件进行氟离子清洗的方法 | ||
| 摘要 | 按本发明的FIC设备(1)能够在超大气压的压力范围内运行，从而与现有技术相比反应气体(7)能够更好地进入到有待清洗的裂缝中，由此强化反应气体(7)与氧化物之间的化学反应。 | ||
| 申请公布号 | CN101821430B | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
| 申请号 | CN200780101047.5 | 申请日期 | 2007.10.10 |
| 申请人 | 西门子公司 | 发明人 | F·-J·拉德鲁;A·诺达尔姆;M·奥特 |
| 分类号 | C23G5/00(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I;F01D25/00(2006.01)I | 主分类号 | C23G5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 曹若 |
| 主权项 | 用于对构件(4、120、130、155)进行氟离子清洗的方法，其中，将氟离子清洗设备(1)的反应室(10)中的反应气体或者反应气体混合物的压力(p)至少暂时地调节得大于大气压(pat)，其中，周期性地降低以及再提高所述反应室(10)中的压力(p)，并且其中，通过反应气体或者反应气体混合物的存在来确定裂缝清洗阶段(S4)，其中，通过反应气体或者反应气体混合物的缺少和比在反应室吹洗阶段(S3)中低的压力(PN)(PN＜PH)来确定反应室吹洗阶段(S3)，并且其中，多次使用反应气体或者反应气体混合物，阶段(S4、S5)被反应室吹洗阶段(S3)中断，其中，在裂缝吹洗阶段(S5)中向裂缝加载非反应气体。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||