采用掩模套刻改变超导微带结构滤波器中心频率的方法

摘要

本发明涉及采用掩模套刻改变超导微带结构滤波器中心频率的方法，属于微波通讯设备技术领域，该方法包括：根据所需滤波器指标，对超导滤波器电路结构进行一次仿真设计，将设计的滤波器采用高分辨率的光刻和离子束刻蚀工艺进行制作，将测试响应曲线与仿真响应曲线对比，修改仿真参数中的有效介电常数，并进行二次仿真，保持谐振器间的距离不改变，裁减滤波器中每节谐振器的长度，使裁减后的滤波器电路的中心频率至所需频率点；制备套刻用掩模板，将二次仿真的滤波器电路图形中被裁减掉的部分暴露出来；对制作的滤波器进行光刻、刻蚀，得到所需中心频率的滤波器。本发明结果准确、成本低；同时保证良好的通带响应，使滤波器性能达到实际应用的要求。

主权项

一种采用掩模套刻改变超导微带结构滤波器中心频率的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤:1）根据所需滤波器指标，用电磁仿真软件对滤波器电路结构进行一次仿真设计，得到仿真参数及仿真响应曲线；2）将设计的滤波器采用高分辨率的光刻和离子束刻蚀工艺进行制作，并使用网络分析仪测试，得到测试参数及响应曲线；3）将测试响应曲线与仿真响应曲线对比，根据所述两种响应曲线的中心频率偏移情况，修改仿真参数中的有效介电常数，使仿真响应曲线的中心频率和测试响应曲线的中心频率一致；4）根据步骤3）得到的有效介电常数参数进行二次仿真，保持谐振器间的距离不改变，裁减滤波器中每节谐振器的长度，使裁减后的滤波器电路的中心频率升高至所述所需滤波器指标的频率点；5）将二次仿真滤波器电路图与一次仿真的滤波器电路图进行对比，制备套刻用掩模板，将二次仿真的滤波器电路图形中被裁减掉的部分暴露出来；6）使用套刻掩模板对步骤2）制作的滤波器进行光刻，并进行离子束刻蚀，得到所需滤波器指标要求的中心频率的滤波器。