| 发明名称 | 二氧化钛薄膜的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明是一种二氧化钛薄膜的制备方法，包括：首先，提供一真空腔体，此真空腔体中具有二氧化钛靶材与晶座，其中晶座上放置有塑料基材。接着，填充1～10Pa的等离子体气体到真空腔体，此等离子体气体是由氩气与氧气所组成。前述氩气与氧气的流量比为9:1～7:1。最后，再利用溅镀法形成锐钛矿晶相的二氧化钛层于塑料基材上，其中在该溅镀过程中该塑料基材温度维持在50～180℃。 | ||
| 申请公布号 | CN101736295B | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
| 申请号 | CN200810174897.4 | 申请日期 | 2008.11.11 |
| 申请人 | 财团法人纺织产业综合研究所 | 发明人 | 胡瑞楷;陈宏昌;林文婷 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 任永武 |
| 主权项 | 一种二氧化钛薄膜的制备方法，至少包含：提供一真空腔体，该真空腔体中具有二氧化钛靶材与一晶座，其中该晶座上放置有一塑料基材；填充1～10Pa的一等离子体气体到该真空腔体，该等离子体气体是由氩气与氧气所组成，其中该氩气与该氧气的流量比为9∶1至7∶1；以及利用溅镀法形成锐钛矿晶相的二氧化钛层于该塑料基材上，其中在溅镀过程中将该塑料基材温度维持在50～180℃。 | ||
| 地址 | 中国台湾台北县土城市承天路6号 | ||