曝光装置

摘要

本发明涉及曝光装置。本发明的目的在于提供一种即使是向比大型化方向的掩模更大的基板的曝光，也不会复制微细的点图案的曝光装置。曝光装置具有：从下方向掩模架按压掩模(100)的掩模提升器(101)；用于调整掩模的位置的掩模推进器(102)；以及掩模架，具备在调整掩模的位置时，供给用于降低掩模和掩模架之间的摩擦阻力的气体的开口部(103-11)。

主权项

一种曝光装置，进行接近式曝光，具有：具备掩模吸附孔的掩模架；从下方向所述掩模架按压掩模的掩模提升器；用于进行所述掩模的位置调整的掩模推进器；以及用于放置复制有在所述掩模上形成的图案的基板的载物台，其特征在于，还具有开口部，该开口部设置于所述掩模架上，在调整所述掩模的位置时，供给用于降低所述掩模和所述掩模架之间的摩擦阻力的气体。