形成有机抗反射层的异氰脲酸酯化合物和包含所述化合物的组合物

摘要

公开了用于形成有机抗反射层的异氰脲酸酯化合物和包括所述异氰脲酸酯化合物的组合物，所述抗反射层在高温(25℃或更高)下具有优异的稳定性、优异的蚀刻速率以及高折射率。所述用于形成有机抗反射层的异氰脲酸酯化合物由权利要求1的通式1所表示。在通式1中，R各自独立地为氢或甲基，R1各自独立地为具有1至15个碳原子且包含0至6个杂原子的脂肪族或环状的饱和或不饱和烃，并且R2各自独立地为具有1至15个碳原子且包含0至15个杂原子的脂肪族或环状的饱和或不饱和烃。

主权项

1.由下列式1表示的用于形成有机抗反射涂层的异氰脲酸酯化合物：[式1]在式1中，R独立地为氢原子或甲基，R₁独立地为含0至6个杂原子的具有1至15个碳原子的链型或环型饱和或不饱和烃基，并且R₂独立地为含0至15个杂原子的具有1至15个碳原子的链型或环型饱和或不饱和烃基，其中，R₁能够具有至少两个结合部分，并且在R₁具有至少两个结合部分的情况下，式1表示的化合物除R₁以外的剩余部分能够与R₁连接以形成聚合物结构。