| 发明名称 | 基体的表面处理的方法和实施该方法的装置 | ||
| 摘要 | 用于借助于电晕放电对基体（28）表面处理的方法，其中在放电过程中将气溶胶（5）喷射到通过在电晕电极与基体（28）之间形成的有效间隙确定的放电区域内，该方法这样构造，使得基本上相反于重力方向进行气溶胶（5）的喷射。 | ||
| 申请公布号 | CN102725127A | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
| 申请号 | CN201080060412.4 | 申请日期 | 2010.11.24 |
| 申请人 | 克劳斯·卡尔瓦尔 | 发明人 | 克劳斯·卡尔瓦尔 |
| 分类号 | B29C59/12(2006.01)I;H01T19/00(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I | 主分类号 | B29C59/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 沈英莹 |
| 主权项 | 用于借助于电晕放电对基体（28）进行表面处理的方法，其中在放电过程中将气溶胶（5）喷射到通过在电晕电极与基体（28）之间形成的有效间隙限定的放电区域内，其特征在于，基本上相反于重力方向进行气溶胶（5）的喷射。 | ||
| 地址 | 德国施泰因哈根 | ||