| 发明名称 | 托盘及具有其的基片加工设备 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种托盘，包括：托盘本体，所述托盘本体内部具有中空结构，其中，所述中空结构中填充有熔点低于所述托盘本体的材料。本发明还提出一种基片加工设备，所述基片加工设备包括上述托盘。根据本发明的基片加工设备，当托盘温度达到一定温度时，托盘内填充的材料融化为液态，因而根据材料液态的特性使托盘表面温度更为均匀，从而提高基片加工设备对基片进行MOCVD(金属有机化合物化学气相淀积)的温度均匀性。另外，本发明的托盘结构简单，成本低且实用性强。 | ||
| 申请公布号 | CN102719808A | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
| 申请号 | CN201110079030.2 | 申请日期 | 2011.03.30 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 徐亚伟 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人 | 张大威 |
| 主权项 | 一种托盘，其特征在于，包括：托盘本体，所述托盘本体内部具有中空结构，其中，所述中空结构中填充有熔点低于所述托盘本体的材料。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||