Belichtungseinrichtung zur strukturierten Belichtung einer Fläche

摘要

Belichtungseinrichtung (14) zur strukturierten Belichtung eines Wafers, mit wenigstens einer Belichtungsanordnung (13) mit der ein Strahlenbündel (2), aufgeteilt in zwei Teilstrahlenbündel (2.1, 2.2) über zwei Mikrospiegelarrays (5.1; 5.2) moduliert wird, um die Durchsatzgeschwindigkeit bei der Belichtung von Wafern zu erhöhen.