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Die Leuchtvorrichtung (10) weist mindestens eine flächige Halbleiterlichtquelle (11, 16) und mindestens eine Reflektoreinheit (12), die zwischen mehreren Reflektorstellungen umschaltbar ist, auf, wobei in einer ersten Reflektorstellung eine erste Reflektorfläche (20) der Reflektoreinheit (12) von der mindestens einen Halbleiterlichtquelle (11) bestrahlbar ist und in einer zweiten Reflektorstellung eine zweite Reflektorfläche (21) der Reflektoreinheit (12) von der mindestens einen Halbleiterlichtquelle (11, 16) bestrahlbar ist. Das Verfahren dient um Betreiben einer Leuchtvorrichtung (10) mit mindestens einer flächige Halbleiterlichtquelle (11, 16) und mindestens einer Reflektoreinheit, wobei das Verfahren mindestens die folgenden Schritte aufweist: Bringen der mindestens einen Reflektoreinheit (12) in eine erste Reflektorstellung, in welcher eine erste Reflektorfläche (20) der Reflektoreinheit (12) von der Halbleiterlichtquelle (11, 16) bestrahlt wird, und Bringen der mindestens einen Reflektoreinheit (12) in eine zweite Reflektorstellung, in welcher eine zweite Reflektorfläche (21) der Reflektoreinheit von der Halbleiterlichtquelle (11, 16) bestrahlt wird. |
