发明名称 核聚变靶材、核聚变装置以及核聚变方法
摘要 本发明的目的在于,能够以比较高的效率引发核聚变反应并且能够使装置小型化。本发明的核聚变装置(1)具备:包含含有氘或者氚的靶基板(7a)及层叠于靶基板(7a)上且含有氘或者氚的薄膜层(7b)的核聚变靶材(7)、容纳核聚变靶材(7)的真空容器(5)、朝着核聚变靶材(7)的薄膜层(7b)照射连续的2个第1及第2脉冲激光(P1,P2)的激光装置(3),第1脉冲激光(P1)的强度小于第2脉冲激光(P2)的强度,并且,被设定为能够从靶基板(7a)剥离薄膜层(7b)的值。
申请公布号 CN102714062A 申请公布日期 2012.10.03
申请号 CN201080057004.3 申请日期 2010.12.15
申请人 浜松光子学株式会社;丰田自动车株式会社 发明人 关根尊史;川嶋利幸;菅博文;北川米喜;森芳孝;东博纯;日置辰视;元广友美;宫本康司;中村直树
分类号 G21B1/15(2006.01)I;G21B1/03(2006.01)I 主分类号 G21B1/15(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 杨琦
主权项 一种核聚变靶材,其特征在于:是用于使核聚变反应发生的核聚变靶材,具备:第1靶层,含有氘或者氚且具有第1膜厚;第2靶层,层叠于所述第1靶层上,含有氘或者氚且具有比所述第1膜厚薄的第2膜厚。
地址 日本静冈县