应用具有预定反射率变化的微镜阵列构成的投射系统的无缝隙曝光

摘要

一个平版印刷扫描设备包含一个用以无缝隙地，均匀地投射一扫描光到曝光区域上的光投装置。该光投射装置进一步包含一具有预定的反射系数变化分布图样微镜阵列，该微镜阵列的微镜被覆盖以不同反射系数的反射覆盖层以提供所说预定的反射系数变化分布图样，以在整个曝光区域进行无缝隙地，均匀地反射光扫描。在另一个平版印刷扫描装置中，该微镜阵列的微镜被覆盖以降低反射系数的条纹，借此每个微镜可以预定的总反射系数，可具有该预定的反射系数变化的分布图样。所述的分布图样是一个反射系数从所述微镜阵列的边缘向着中心区域逐渐增加的图样。

主权项

一个用以无缝隙和均匀曝光一曝光区域的光投射设备，该光投射设备包含：一个具有预定的反射系数变化分布图样的微镜阵列，所述微镜阵列的微镜被覆盖以不同反射系数的反射覆盖层以提供所说预定的反射系数变化分布图样，用以反射入射光到上述曝光区域上，以投射一反射光束，该反射光束均匀地、无缝隙地在上述曝光区域上进行扫描，该光投射设备还包含一个微镜控制器，该微镜控制器根据支撑于一个可变形衬底上的所述曝光区域的变形测量结果，对所述微镜阵列中的每一个微镜进行控制，以完成在所述可变形衬底上的无掩模平版印刷曝光，所述的分布图样是一个反射系数从所述微镜阵列的边缘向着中心区域逐渐增加的图样。