发明名称 |
可主动驱动的悬浮基盘抛光装置 |
摘要 |
本发明公开了一种可主动驱动的悬浮基盘抛光装置,包括主动驱动研磨传动装置、悬浮基盘、修正环和研磨盘,所述主动驱动研磨传动装置与所述修正环固定连接且带动所述修正环旋转;所述修正环通过固定件固定在所述研磨盘上且能绕固定中心线转动;所述悬浮基盘卡在所述修正环内,特点是所述悬浮基盘沿圆周方向设有多个楔形槽,所述楔形槽中充满抛光液;所述修正环带动所述悬浮基盘回转运动,所述悬浮基盘在回转运动下产生液体动压使工件浮起,所述的工件与抛光液磨料相接触。本发明装置简单,成本较低;可改善工件的表面粗糙度和平面度;工件与抛光颗粒软性接触减少了抛光给工件造成的内部损伤;操作条件简单,具有广泛的发展前景。 |
申请公布号 |
CN102699809A |
申请公布日期 |
2012.10.03 |
申请号 |
CN201210140631.4 |
申请日期 |
2012.05.07 |
申请人 |
浙江工业大学 |
发明人 |
文东辉;潘国庆;马利;冷巧辉 |
分类号 |
B24B37/00(2012.01)I;B24B37/27(2012.01)I |
主分类号 |
B24B37/00(2012.01)I |
代理机构 |
杭州天正专利事务所有限公司 33201 |
代理人 |
王兵;黄美娟 |
主权项 |
可主动驱动的悬浮基盘抛光装置,包括主动驱动研磨传动装置、悬浮基盘、修正环和研磨盘,所述主动驱动研磨传动装置与所述修正环固定连接且带动所述修正环旋转;所述修正环通过固定件固定在所述研磨盘上且能绕固定中心线转动;所述悬浮基盘卡在所述修正环内,其特征在于:所述悬浮基盘沿圆周方向设有多个楔形槽,所述楔形槽中充满抛光液;所述修正环带动所述悬浮基盘回转运动,所述悬浮基盘在回转运动下产生液体动压使工件浮起,所述的工件与抛光液磨料接触。 |
地址 |
310014 浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号 |