发明名称 |
嵌段共聚物型分散剂及其光引发聚合制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种嵌段共聚物型分散剂及其光引发聚合制备方法,制备方法包括如下步骤:(1)在溶剂中,将2,2′-联二吡啶加入过渡金属卤化物反应,得到配合物溶液;(2)然后开启紫外光辐照反应,并滴加乙烯基羧酸酯或醋酸乙烯酯和光敏引发剂反应,该部分单体量为总单体重量的5~10%;(3)然后加入余量的与步骤(2)相同的单体,在与步骤(1)相同的温度下反应,然后加入余量的另一种单体反应;(4)过氧化铝柱,除去过渡金属后,将所得溶液与氢氧化钠溶液混合水解;(5)蒸馏,收集蒸馏后的产物,除去溶剂,调节体系的pH和重量固含量,获得产物。本发明的方法制备获得的产物,分子量分布窄,具有卓越分散性能和很强抗盐性。 |
申请公布号 |
CN102702455A |
申请公布日期 |
2012.10.03 |
申请号 |
CN201210224429.X |
申请日期 |
2012.06.29 |
申请人 |
上海东升新材料有限公司 |
发明人 |
施晓旦;金霞朝 |
分类号 |
C08F293/00(2006.01)I;C08F2/48(2006.01)I;C09C3/10(2006.01)I;C09C1/02(2006.01)I |
主分类号 |
C08F293/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
嵌段共聚物型分散剂的光引发聚合制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)在溶剂中,惰性气氛下,将2,2′‑联二吡啶加入过渡金属卤化物反应,得到配合物溶液;(2)然后开启紫外光辐照反应,并滴加乙烯基羧酸酯或醋酸乙烯酯和光敏引发剂反应,该部分单体量为总单体重量的5~10%;(3)然后加入余量的与步骤(2)相同的单体,在与步骤(1)相同的温度下反应,然后加入余量的另一种单体反应;(4)过氧化铝柱,除去过渡金属后,将所得溶液与重量浓度为20~50%的氢氧化钠溶液混合水解;(5)蒸馏,收集蒸馏后的产物,除去有机溶剂,加NaOH调节体系的pH,并加水调节重量固含量,获得产物。 |
地址 |
200233 上海市徐汇区田林路388号1幢701室 |