发明名称 |
产生流体传送的方法和设备 |
摘要 |
在无孔基底上制造吸收区域,该吸收区域是为了建立和/或维持流体在穿过或顺着所述至少一个流体通道的传送,该基底具有基本上垂直于所述表面的凸起,且该凸起具有高度、直径和凸起之间的一个或多个距离,致使在所述区域内的所述流体形成横向毛细管流。 |
申请公布号 |
CN101203311B |
申请公布日期 |
2012.10.03 |
申请号 |
CN200680022214.2 |
申请日期 |
2006.06.20 |
申请人 |
阿米克公司 |
发明人 |
珀·O·奥曼;伊布·门德尔-哈特维格 |
分类号 |
B01L3/00(2006.01)I;G01N33/558(2006.01)I |
主分类号 |
B01L3/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
范晓斌;谭祐祥 |
主权项 |
处理流体的设备,所述设备包括:至少一个为了流体传送的流体通道;以及吸收区域,其建立和/或维持穿过或顺着所述至少一个流体通道的流体传送,其特征在于所述吸收区域包括具有基底表面的无孔基底,所述区域具有基本上垂直于所述表面的凸起,所述凸起具有高度(H)、直径(D)以及凸起之间的一个或多个距离(t1,t2),致使在所述区域内的所述流体形成横向毛细管流,在吸收区域的所述垂直凸起上面放置箔,其中,所述箔具有影响所述至少一个流体通道中流速的亲水特性。 |
地址 |
瑞典乌普萨拉省 |