发明名称 产生流体传送的方法和设备
摘要 在无孔基底上制造吸收区域,该吸收区域是为了建立和/或维持流体在穿过或顺着所述至少一个流体通道的传送,该基底具有基本上垂直于所述表面的凸起,且该凸起具有高度、直径和凸起之间的一个或多个距离,致使在所述区域内的所述流体形成横向毛细管流。
申请公布号 CN101203311B 申请公布日期 2012.10.03
申请号 CN200680022214.2 申请日期 2006.06.20
申请人 阿米克公司 发明人 珀·O·奥曼;伊布·门德尔-哈特维格
分类号 B01L3/00(2006.01)I;G01N33/558(2006.01)I 主分类号 B01L3/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 范晓斌;谭祐祥
主权项 处理流体的设备,所述设备包括:至少一个为了流体传送的流体通道;以及吸收区域,其建立和/或维持穿过或顺着所述至少一个流体通道的流体传送,其特征在于所述吸收区域包括具有基底表面的无孔基底,所述区域具有基本上垂直于所述表面的凸起,所述凸起具有高度(H)、直径(D)以及凸起之间的一个或多个距离(t1,t2),致使在所述区域内的所述流体形成横向毛细管流,在吸收区域的所述垂直凸起上面放置箔,其中,所述箔具有影响所述至少一个流体通道中流速的亲水特性。
地址 瑞典乌普萨拉省