在反射中具有中性色的抗反射透明基材

摘要

透明基材(6)，尤其是玻璃基材，它包括抗反射涂层，其由交替的高和低折射指数的电介质材料制成的薄层叠层(A)制成，特征在于，从基材表面开始，该叠层顺序地包括：高指数第一层(1)，其折射指数n1为1.8-2.3，几何厚度e1为10-25nm；低指数第二层(2)，其折射指数n2为1.40-1.55，几何厚度e2为20-50nm；高指数第三层(3)，其折射指数n3为1.8-2.3，几何厚度e3为110-150nm；低指数第四层(4)，其折射指数n4为1.40-1.55，几何厚度e4为60-95nm，几何厚度的代数和e3+e1为125-160nm。

主权项

透明基材(6)，它包括抗反射涂层，该抗反射涂层由高和低折射指数的电介质材料交替的薄层叠层(A)制成，特征在于，从基材表面开始，该叠层顺序地包括：‑高指数第一层(1)，其折射指数n1为1.8‑2.3，几何厚度e1为10‑25nm，‑低指数第二层(2)，其折射指数n2为1.40‑1.55，几何厚度e2为20‑50nm，‑高指数第三层(3)，其折射指数n3为1.8‑2.3，几何厚度e3为110‑150nm，‑低指数第四层(4)，其折射指数n4为1.40‑1.55，几何厚度e4为60‑95nm，几何厚度的代数和e3+e1为125‑160nm，特征在于所述叠层(A)不含有掺杂剂Zr和所述叠层存在于所述基材的至少一个面上，另一面是裸露的，用具有其他功能的另外涂层涂覆，或用另外的如前所述的抗反射叠层(A)进行涂覆，其中高指数第一层(1)和/或高指数第三层(3)是基于氮化硅和/或氮化铝，或基于锡/锌混合氧化物SnxZnyOz、锌‑钛混合氧化物TiZnOx或基于硅/钛混合氧化物SixTiyOz，低指数第二层(2)和/或低指数第四层(4)是基于硅的氧化物、硅的氧氮化物和/或硅的氧碳化物或基于硅和铝的混合氧化物。