发明名称 一种防尘摄像模组的制备方法及装置
摘要 本发明公开了一种防尘摄像模组的制备方法,包括以下步骤:其包括以下步骤:(1)制备一镜头、感光芯片、平面印刷电路基板;(2)制备一具备厚度的中空的密封层;(3)制备一具备厚度的透明材料的透光保护层,并将其设置在所述密封层的上表面上,且将该密封层完全覆盖,在所述感光芯片感光区域的正上方到透光保护层的上表面之间,形成一垂直高度不小于0.65mm的成像保护区域。本发明还公开了一种实施本方法的装置。本发明的有益效果是:通过在感光芯片上设置密封层和保护层,增大成像距离,使掉落在保护层上的灰尘大于30μm时,才能成像,有效的解决了摄像模组的防尘问题。
申请公布号 CN102707547A 申请公布日期 2012.10.03
申请号 CN201210211626.8 申请日期 2012.06.25
申请人 东莞光阵显示器制品有限公司 发明人 沈振权;舒伟平;曹后平;田野;童小琴;卢密;刘文姬
分类号 G03B17/02(2006.01)I;G03B17/12(2006.01)I;G02B7/00(2006.01)I;H04N5/225(2006.01)I 主分类号 G03B17/02(2006.01)I
代理机构 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人 吴英彬
主权项 一种防尘摄像模组的制备方法,其特征在于,其包括以下步骤:(1)制备一镜头、感光芯片、平面印刷电路基板;将所述感光芯片的下表面设置在平面印刷电路基板上;(2)制备一具备厚度的中空的密封层,设置在所述的感光芯片上表面并将该上表面的外侧周边部分覆盖,其中空部分对应设置在感光芯片感光区域的正上方;(3)制备一具备厚度的透明材料的透光保护层,并将其设置在所述密封层的上表面上,且将该密封层完全覆盖,在所述感光芯片感光区域的正上方到透光保护层的上表面之间,形成一垂直高度不小于0.65mm的成像保护区域,使微尘不能进入到所述成像保护区域内,且使落在所述透光保护层的上表面的微尘颗粒不能成像。
地址 523000 广东省东莞市清溪镇银星工业区