发明名称 光学薄膜、光学薄膜的制造方法、偏振板、显示面板及显示器
摘要 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性,且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1~40μm的硬涂层的光学薄膜,其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体;在所述硬涂层的膜厚方向上,在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50~700nm的区域中,存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
申请公布号 CN102713686A 申请公布日期 2012.10.03
申请号 CN201080057928.3 申请日期 2010.12.22
申请人 大日本印刷株式会社 发明人 村上茂树;唯木隆伸
分类号 G02B1/10(2006.01)I 主分类号 G02B1/10(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 张宝荣
主权项 一种光学薄膜,其是在透光性基材的一侧设置膜厚1~40μm的硬涂层的光学薄膜,其特征在于,在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体;在所述硬涂层的膜厚方向上,在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50~700nm的区域中,存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
地址 日本国东京都