发明名称 |
光学薄膜、光学薄膜的制造方法、偏振板、显示面板及显示器 |
摘要 |
本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性,且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1~40μm的硬涂层的光学薄膜,其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体;在所述硬涂层的膜厚方向上,在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50~700nm的区域中,存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。 |
申请公布号 |
CN102713686A |
申请公布日期 |
2012.10.03 |
申请号 |
CN201080057928.3 |
申请日期 |
2010.12.22 |
申请人 |
大日本印刷株式会社 |
发明人 |
村上茂树;唯木隆伸 |
分类号 |
G02B1/10(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/10(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
张宝荣 |
主权项 |
一种光学薄膜,其是在透光性基材的一侧设置膜厚1~40μm的硬涂层的光学薄膜,其特征在于,在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体;在所述硬涂层的膜厚方向上,在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50~700nm的区域中,存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。 |
地址 |
日本国东京都 |