| 发明名称 | 防反射用光学元件以及原盘的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了防反射用光学元件以及用于制造该防反射用光学元件的原盘的制造方法。本发明的光学元件通过在基体表面以小于等于可视光的波长的细微间隔配置多个由凸部或凹部构成的构造体而形成。各构造体被配置成在基体表面构成多列轨迹，且形成准六边形格子图案，相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1长于邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔P2，所述直径2r对所述配置间隔P1的比率((2r/P1)×100)大于等于85％，构造体为在轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆锥形状或椭圆锥台形状。 | ||
| 申请公布号 | CN101930085B | 申请公布日期 | 2012.10.03 |
| 申请号 | CN201010235753.2 | 申请日期 | 2009.02.27 |
| 申请人 | 索尼株式会社 | 发明人 | 远藤惣铭;林部和弥 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;H01L31/052(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 余刚;吴孟秋 |
| 主权项 | 一种防反射用光学元件，其特征在于，包括：基体；以及多个由凸部或凹部构成的构造体，以小于等于可视光的波长的细微间隔被配置在所述基体的表面，其中，各个所述构造体被配置成在所述基体表面构成多列轨迹，且形成准六边形格子图案，当将相同轨迹内的所述构造体的配置间隔设定为P1，将邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔设定为P2，并将所述构造体底面在轨迹方向上的直径设定为2r时，相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1长于邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔P2，所述直径2r对所述配置间隔P1的比率((2r/P1)×100)大于等于85％，所述构造体是沿所述轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||