发明名称 用于滤膜的气体分布器
摘要 一种用于滤膜系统的气体分布器,即使被提供较持续的气体流,其也会产生间歇的气泡流。该分布器具有用以聚集气穴的壳体和用以在穴达到足够的大小时从穴中释放一些气体的管道。可选地,在管道的出口上方的盖可分散或者分配所释放的气体。大型分布器可包括多个较小的单元或区域。至分布器的气体供应可响应于膜系统中的状况的改变而在较长的时期里在流率上有所变化,以改变连续气泡喷出之间的时间。气体供应管路可具有在不同的高度处与两个或更多个单元或区域中的各个连通的两个或更多个出口。可使在两个或更多个单元或区域之间的气体的排出同步。成组的单元或区域中的一个或多个可接收处于较高流率的供应气体。
申请公布号 CN102711963A 申请公布日期 2012.10.03
申请号 CN201080050537.9 申请日期 2010.07.30
申请人 泽农科技合股公司 发明人 J·R·卡明;H·贝曼;Y·洪;R·贝利;万朝阳;J·布赖特纳
分类号 B01D61/18(2006.01)I;B01D65/02(2006.01)I;B01D65/08(2006.01)I;C02F1/44(2006.01)I;B01F3/04(2006.01)I 主分类号 B01D61/18(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 李强;傅永霄
主权项 一种用于在液体中提供气泡的设备,包括,a)壳体,其限定腔室,并且在所述腔室的下方具有开口,从而允许所述腔室的内部与所述腔室的外部之间连通;以及,b)管道,所述管道具有在所述腔室内部的第一开口和与所述腔室的外部连通的第二开口,并且限定封闭通道,所述封闭通道具有在从所述第一开口到所述第二开口的方向上向下延伸到所述管道的低点的部分,其中,c)所述腔室适合于保持气穴,所述气穴在所述气穴与所述液体之间的交界面上方,所述交界面具有范围为至少从在所述管道中的所述第一开口的下边界至所述管道的所述低点的上边界的可变高度。
地址 美国德拉华州