| 发明名称 | 利用倾斜蒸镀的光刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种利用倾斜蒸镀的光刻方法，所述方法的特征在于包括：步骤(1)，在基板上表面涂布抗蚀剂；步骤(2)，利用光刻工艺使所述抗蚀剂图案化；步骤(3)，在图案化后的所述抗蚀剂的上层倾斜蒸镀第一薄膜材料，形成变形的图案掩膜；步骤(4)，通过变形的所述图案掩膜，在所述基板的上表面蒸镀第二薄膜材料；及步骤(5)，去除涂布在所述基板的上表面的抗蚀剂。 | ||
| 申请公布号 | CN102714140A | 申请公布日期 | 2012.10.03 |
| 申请号 | CN201080044742.4 | 申请日期 | 2010.11.10 |
| 申请人 | 韩国生命工学研究院 | 发明人 | 慎容范;李承雨 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种利用倾斜蒸镀的光刻方法，其特征在于，包括：步骤(a)，在基板上表面涂布抗蚀剂；步骤(b)，利用光刻工艺使所述抗蚀剂图案化；步骤(c)，在图案化后的所述抗蚀剂的上层倾斜蒸镀第一薄膜材料，形成变形的图案掩膜；步骤(d)，通过所述变形的图案掩膜，在所述基板的上表面蒸镀第二薄膜材料；及步骤(e)，去除被涂布在所述基板的上表面的抗蚀剂。 | ||
| 地址 | 韩国大田 | ||