发明名称 二环己烷衍生化合物及其制造方法
摘要 公开一种二环己烷衍生物及其生产方法,所述二环己烷衍生物可用于与光致抗蚀剂或医药和农药化合物的中间体有关的技术领域。具体公开一种由通式(II)表示的二环己烷衍生化合物(其中,各Y独立地表示C<sub>1-10</sub>烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基,X<sup>1</sup>表示卤素原子,m表示0-11的整数和m'表示0-10的整数)。<img file="dda00001886799700011.GIF" wi="1015" he="329" />
申请公布号 CN102712561A 申请公布日期 2012.10.03
申请号 CN201180006129.8 申请日期 2011.01.13
申请人 三菱瓦斯化学株式会社 发明人 越后雅敏;小黑大
分类号 C07C43/12(2006.01)I;C07C41/09(2006.01)I;C07C43/23(2006.01)I;C07C59/72(2006.01)I;C07C69/54(2006.01)I;C07C69/712(2006.01)I;C08F20/28(2006.01)I;C08K5/04(2006.01)I;C08L33/14(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I 主分类号 C07C43/12(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 1.一种由以下通式(II)表示的二环己烷衍生化合物:[化学式1]<img file="FDA00001886799500011.GIF" wi="1016" he="329" />(式(II)中,Y独立地表示1-10个碳的烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基,X<sup>1</sup>表示卤素原子,m表示0-11的整数,和m'表示0-10的整数。)
地址 日本东京都