| 发明名称 | 一种真空吸附陶瓷移动盘抛光机 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及晶片抛光技术领域，公开了一种真空吸附陶瓷移动盘抛光机，其包括：抛光机机身(1)、位于其下端可旋转的抛光机上盘(2)；与所述抛光机上盘(2)底面连接的陶瓷移动盘(3)；所述陶瓷移动盘(3)与抛光机上盘(2)之间通过真空吸附连接。由于陶瓷材料抗腐蚀，受热胀冷缩的影响小，受力时不易变形等优点，本实用新型采用将原铝合金移动盘(3′)替换为陶瓷移动盘(3)，相对于使用铝合金移动盘(3′)时的抛光晶片平整度7-9μm，使用陶瓷移动盘(3)可以使抛光晶片平整度提高到4-5μm。 | ||
| 申请公布号 | CN202462188U | 申请公布日期 | 2012.10.03 |
| 申请号 | CN201220040248.7 | 申请日期 | 2012.02.08 |
| 申请人 | 北京通美晶体技术有限公司 | 发明人 | 张孝忠;刘文森 |
| 分类号 | B24B29/02(2006.01)I | 主分类号 | B24B29/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 韩国胜;王莹 |
| 主权项 | 一种真空吸附陶瓷移动盘抛光机，其特征在于，其包括：抛光机机身(1)、位于其下端可旋转的抛光机上盘(2)；与所述抛光机上盘(2)底面连接的陶瓷移动盘(3)；所述陶瓷移动盘(3)与抛光机上盘(2)之间通过真空吸附连接。 | ||
| 地址 | 101113 北京市通州区工业开发区东二街4号 | ||