发明名称 |
用于干式清洁的设备和方法 |
摘要 |
一种清洁设备,包括清洁罐,该清洁罐具有容纳多个柔性薄片清洁介质的空间;清洁目标物体保持单元,该清洁目标物体保持单元被构造成将其上粘附由粘附物质的清洁目标物体保持在清洁罐的内侧;气流发生器单元,该气流发生器单元被构造成产生气流以将多个柔性薄片清洁介质朝向清洁目标物体移动,使得多个柔性薄片清洁介质接触清洁目标物体,以从清洁目标物体上去除粘附物质;以及粘附物质收集单元,该粘附物质收集单元被构造成移动气流,以收集从清洁目标物体上去除的粘附物质。清洁介质的表面包括磨粒,以通过在所述清洁介质中的具有磨粒的表面与清洁目标物体相接触的同时使得清洁介质具有磨粒的表面在清洁目标物体上滑动,来从清洁目标物体上去除粘附物质。 |
申请公布号 |
CN102712017A |
申请公布日期 |
2012.10.03 |
申请号 |
CN201080061160.7 |
申请日期 |
2010.09.15 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
渕上明弘;冈本洋一;佐藤达哉 |
分类号 |
B08B5/00(2006.01)I;G03G21/10(2006.01)I |
主分类号 |
B08B5/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
王冉 |
主权项 |
一种清洁设备,包括:清洁罐,该清洁罐具有容纳多个柔性薄片清洁介质的空间;清洁目标物体保持单元,该清洁目标物体保持单元被构造成将其上粘附有粘附物质的清洁目标物体保持在清洁罐的内侧;气流发生器单元,该气流发生器单元被构造成产生气流以将多个柔性薄片清洁介质朝向清洁目标物体移动,使得多个柔性薄片清洁介质接触清洁目标物体,以从清洁目标物体上去除粘附物质;以及粘附物质收集单元,该粘附物质收集单元被构造成移动气流,以收集从清洁目标物体上去除的粘附物质,其中,每个柔性薄片清洁介质的至少一个表面包括磨粒,以通过在所述柔性薄片清洁介质中的具有磨粒的至少一个表面与清洁目标物体相接触的同时使得柔性薄片清洁介质具有磨粒的至少一个表面在清洁目标物体上滑动,来从清洁目标物体上去除粘附物质。 |
地址 |
日本东京都 |