| 发明名称 | 形成遮光隔壁用的碱显影型黑色感光性树脂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种形成遮光隔壁用的碱显影型黑色感光性树脂组合物，其含有(A)含有羧基的感光性预聚物、(B)光聚合引发剂、(C)黑色颜料及(D)光透过性的微粒作为必须成分。通过使用该组合物，利用光刻法可以形成在显影时不会发生底切、且显示充分的遮光性的高度为20μm以上的遮光隔壁11。在优选的方案中，所述(C)黑色颜料可使用金属氧化物，优选使用氧化铁，另外，所述(D)微粒可使用折射率为1.40～1.90的无机微粒，优选使用二氧化硅。 | ||
| 申请公布号 | CN101454721B | 申请公布日期 | 2012.10.03 |
| 申请号 | CN200780019594.9 | 申请日期 | 2007.05.29 |
| 申请人 | 太阳控股株式会社 | 发明人 | 宫部英和;糸川弦;增子淳;根本浩之 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G02B5/00(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种形成遮光隔壁用的碱显影型黑色感光性树脂组合物，其特征在于，该黑色感光性树脂组合物用于利用光刻法形成高20μm以上的遮光隔壁，其含有(A)含有羧基的感光性预聚物，(B)光聚合引发剂、作为黑色颜料的(C)氧化铁及(D)光透过性的二氧化硅微粒作为必须成分，其中，所述(C)氧化铁的平均粒径为20μm以下，所述(D)光透过性的二氧化硅微粒的平均粒径为20μm以下，所述(C)氧化铁的配合比例为组合物总体积的0.1～7vol.％。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||