基板洗净处理装置及基板处理单元

摘要

本发明提供一种基板洗净处理装置，系在进行装置安置之际无须进行搬运系统的定位，而得以减少装置之设置面积。本发明之基板洗净处理装置，系在基座体型之1个框架(1)中，载设有：搬运基板之基板搬运装置(2)；进行基板处理之至少1个基板处理单元(3)；载置基板收纳匣(4)之基板装载埠(5)；以及将处理液供给至基板处理装置(3)之处理液供给装置(6)，且基板处理装置(3)的维修可由装置背面进行的方式来构成。

主权项

一种基板洗净处理装置，系构成为：在基座一体型之1个框架中，载设有：搬运基板之基板搬运装置；进行基板处理之至少1个基板处理单元；载置基板收纳匣之基板装载埠；以及将处理液供给至前述基板处理单元之处理液供给装置；而且前述基板处理单元的维修可由装置背面来进行，前述基板处理单元中，至少1个以上的基板处理单元，系可进行基板之两面洗净处理、基板之斜面蚀刻处理、单面之清洗处理中的至少一项处理，且可进行乾燥处理的基板处理单元，前述基板处理单元具备有喷吹板，用以在前述基板处理单元中经过处理后之基板表面的乾燥操作中，朝基板外围喷射惰性气体，前述喷吹板是由至少基板外围侧以及比外围侧更内侧的2处以上喷射惰性气体。一种基板洗净处理装置，具备有：载置基板收纳匣之基板装载埠；进行基板处理之基板处理单元；以及配置在前述基板装载埠与基板处理单元之间，而且仅在该装载埠与基板处理单元之间搬运基板的基板搬运装置，前述基板处理单元具备有：将基板保持成水平并使其旋转的基板保持部；配置在保持于前述基板保持部之基板上方及下方，对该基板供给气体之气体供给喷嘴；配置在保持于前述基板保持部之基板上方及下方，对该基板供给液体之液体供给喷嘴；以及使前述气体供给喷嘴及前述液体供给喷嘴由基板之中心部往周缘部移动的移动机构，前述液体供给喷嘴系配置在基板之直径方向之比前述气体供给喷嘴更外侧之位置。一种基板处理单元，系在供给有清净气体之处理区域中所使用者，具备有：配置在前述处理区域的处理室；在该处理室内将基板保持成可在水平面内旋转的基板保持部；以及对保持在该基板保持部的基板供给处理流体的处理流体供给手段，而且在前述处理室设有气流形成手段，其系藉由自形成于前述基板保持部上方之气体取入口承接前述清净气体，再由底部侧进行排气，以形成均等包围保持于前述基板保持部之基板的气流，前述气体取入口系沿着保持在前述基板保持部的前述基板的周缘部形成。一种基板处理单元，系在供给有清净气体之处理区域中所使用者，具备有：配置在前述处理区域的处理室；在该处理室内将基板保持成可在水平面内旋转的基板保持部；对保持在该基板保持部的基板供给处理流体的处理流体供给手段；以及以预定间隙覆盖前述基板表面，对该间隙供给气体，以防止处理流体进入该间隙的喷吹构件，前述喷吹构件系构成为：令覆盖前述基板面之第1区域的第1覆盖构件及覆盖前述基板面之第2区域的第2覆盖构件，以至少一方可对另一方活动之方式设置。如申请专利范围第3项或第4项之基板处理单元，其中，前述基板保持部系具有在铅直方向具有轴线之复数个滚轮，且在该等滚轮上形成有用以供该滚轮保持前述基板之开口部的滚轮盖罩。如申请专利范围第3项或第4项之基板处理单元，其中，设置有对前述基板喷射气体的气体喷嘴，以及在不使用该气体喷嘴时用以覆盖该气体喷嘴的喷嘴盖罩。如申请专利范围第3项或第4项之基板处理单元，其中，设有用以在预定之时序清洗前述处理室内壁的洗净液供给手段。如申请专利范围第1项之基板洗净处理装置，其中，前述处理单元系具有：将基板保持成水平并使其旋转的基板保持部；配置在保持于前述基板保持部之基板上方及下方，对该基板供给气体之气体供给喷嘴；配置在保持于前述基板保持部之基板上方及下方，对该基板供给液体之液体供给喷嘴；以及使前述气体供给喷嘴与前述液体供给喷嘴由基板之中心部往周缘部移动的移动机构，前述液体供给喷嘴系配置在基板之直径方向之比前述气体供给喷嘴更外侧之位置。