发明名称 由铝基材中选择性移除金属之溶液
摘要 本发明系关于一种自基材如含铝基材选择性移除金属如Ta或TaN之溶液。此溶液包含酸如HF或缓冲HF、包含氟离子如氟化铵(NH4F)之成分、乙二醇及水。亦揭示一种使用此溶液自基材选择性移除金属之方法。
申请公布号 TWI373536 申请公布日期 2012.10.01
申请号 TW093141577 申请日期 2004.12.31
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 杰瑞米W 艾波顿;约翰 迪姆
分类号 C23G1/12 主分类号 C23G1/12
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种溶液,该溶液包含以溶液之重量%计之:1至20%的至少一种酸,该至少一种酸选自由HF、盐酸、硫酸、硝酸、磷酸及其混合物所组成之群组;1至10%的至少一种包含氟离子之成分,其中该成分系选自由氟化铵(NH4F)、氟化钾、氟化钠及其混合物所组成之群组;50至60%的乙二醇,及水。如请求项1所述之溶液,包含10至15%的该至少一种酸,该至少一种酸系选自由HF、盐酸、硫酸、硝酸、磷酸及其混合物所组成之群组。如请求项1所述之溶液,包含1至5%的该至少一种包含氟离子之成分。如请求项1所述之溶液,进一步包含至少一种阴离子界面活性剂、非离子界面活性剂、阳离子界面活性剂或两性离子界面活性剂。如请求项4所述之溶液,其中该至少一种界面活性剂系选自由链长C2至C12之第一胺、链长C2至C12之第二胺、链长C2至C12之第三胺、醯胺、氟碳及烷基乙氧化物所组成之群组。如请求项1所述之溶液,其中该溶液具有低于6之pH。一种溶液,该溶液包含以溶液之重量%计之:1至20%的HF,1至5%的NH4F,50至60%的乙二醇,界面活性剂,及其余水。一种方法,该方法包含下列步骤:将一含铝基材与一溶液接触,以自该含铝基材选择性移除一含金属涂膜,该溶液包含以溶液之重量%计之:1至20%的至少一种酸,该至少一种酸选自由HF、盐酸、硫酸、硝酸、磷酸及其混合物所组成之群组;1至10%的至少一种包含氟离子之成分,其中该成分系选自由氟化铵(NH4F)、氟化钾、氟化钠及其混合物所组成之群组;50至60%的乙二醇,及水,其中该基材系与该溶液接触一段足以自该基材移除该涂膜而不会实质上腐蚀该基材之时间。如请求项8所述之方法,其中该含金属涂膜包含一金属或一金属化合物,该金属或该金属化合物系选自由铜、钨、钛、钽、以及其氧化物、硼化物、氮化物、碳化物、合金及混合物所组成之群组。如请求项9所述之方法,其中该含金属涂膜包含一材料,该材料系选自由金属钽及氮化钽所组成之群组。如请求项8所述之方法,其中该基材包含选自由元素铝、氮化铝、硼化铝及其混合物所组成之群组中之一材料。如请求项8所述之方法,其中该乙二醇在未覆盖该涂膜之该基材的至少一部分上形成一铝乙醇盐层。如请求项8所述之方法,其中该溶液进一步包含至少一种阴离子界面活性剂、非离子界面活性剂、阳离子界面活性剂或两性离子界面活性剂。如请求项13所述之方法,其中该至少一种界面活性剂系选自由链长C2至C12之第一胺、链长C2至C12之第二胺、链长C2至C12之第三胺、醯胺、氟碳及烷基乙氧化物所组成之群组。如请求项8所述之方法,其中该溶液具有低于6之pH。如请求项8所述之方法,其中该溶液加热至高达120℃之温度。如请求项16所述之方法,其中该溶液加热至温度范围为85℃至95℃之温度。如请求项16所述之方法,其中该溶液加热至温度范围为室温至85℃之温度。一种自一基材选择性移除一含金属涂膜之方法,该基材包含铝且至少局部被该含金属涂膜覆盖,该含金属涂膜包含选自由金属Ta及TaN所组成之群组中之一材料,该方法包含下列步骤:将该基材与一溶液接触,该溶液包含以溶液之重量%计之:1至20%的HF,1至10%的NH4F,50至60%的乙二醇,及其余水,在该基材之一暴露部分上形成一铝乙醇盐层,其中该基材系与该溶液接触一段足以自该基材移除该含金属涂膜而不会实质上腐蚀该基材之时间,其中该溶液系在与该基材接触之前或期间加热至温度范围为85℃至95℃之温度。
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