液晶显示装置

摘要

本发明系关于一种液晶显示装置。该液晶显示装置包括一第一基板、一与该第一基板相对设置之第二基板及一夹于该第一、第二基板之间之液晶层，该第一基板包括一公共电极，该第二基板包括复数画素电极，该液晶层包括复数液晶分子；其中，该第一基板、第二基板及液晶层构成复数画素单元，每一画素单元包括夹于该公共电极与该像素电极之间之一介电层及至少一区域分割件，该区域分割件将该画素单元划分为复数区域，该区域分割件之材质系介电物质，该区域分割件之介电常数与该介电层相异，使该复数区域之液晶分子具多个取向。

主权项

一种液晶显示装置，其包括：一第一基板，其包括一公共电极；一与该第一基板相对设置之第二基板，其包括复数画素电极；及一夹于该第一基板与该第二基板之间之液晶层，其包括复数液晶分子；其中，该第一基板、第二基板及液晶层构成复数画素单元，每一画素单元包括夹于该公共电极与该像素电极之间之一介电层及至少一区域分割件，该区域分割件包括相互垂直之第一部分及第二部分，将该画素单元划分为复数区域，该区域分割件之材质系介电物质，该区域分割件之介电常数与该介电层相异，使该复数区域之液晶分子具多个取向。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中，该区域之液晶分子呈轴对称排列。如申请专利范围第2项所述之液晶显示装置，其中，该区域之液晶分子以该区域之中心处之垂直于该第一、第二基板之中心轴线呈轴对称排列。如申请专利范围第3项所述之液晶显示装置，其中，该区域之液晶分子呈正立伞状或倒立伞状之轴对称排列。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中，该复数区域之液晶分子呈固定取向之多域排列。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中，该介电层包括至少一开槽，该区域分割件设置于该开槽。如申请专利范围第6项所述之液晶显示装置，其中，该介电层设置于该画素电极与该液晶层之间。如申请专利范围第6项所述之液晶显示装置，其中，该介电层设置于该公共电极与该液晶层之间。如申请专利范围第7项所述之液晶显示装置，其中，构成该区域分割件之介电物质之介电常数小于构成该介电层之介电物质之介电常数。如申请专利范围第8项所述之液晶显示装置，其中，构成该区域分割件之介电物质之介电常数大于构成该介电层之介电物质之介电常数。如申请专利范围第7项所述之液晶显示装置，其中，每一画素单元包括复数区域分割件，其分别位于该复数区域之中心。如申请专利范围第11项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板包括复数凹陷部，该画素电极均匀覆盖该第二基板亦在该复数凹陷部处凹陷，该凹陷部与该区域之边界相对应。如申请专利范围第11项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板进一步包括一绝缘层，该绝缘层包括复数凹陷部，该画素电极均匀覆盖该绝缘层亦在该复数凹陷部凹陷。如申请专利范围第11项所述之液晶显示装置，其中，该画素电极包括藉由复数小节点电连接之复数次画素，该复数次画素对应该复数区域。如申请专利范围第12项、第13项或第14项所述之液晶显示装置，其中，构成该区域分割件之介电物质之介电常数大于构成该介电层之介电物质之介电常数。如申请专利范围第8项所述之液晶显示装置，其中，每一画素单元包括复数区域分割件，其分别位于该复数区域之中心。如申请专利范围第16项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板包括复数凹陷部，该画素电极均匀覆盖该第二基板亦在该复数凹陷部处凹陷，该凹陷部与该区域之边界相对应。如申请专利范围第16项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板进一步包括一绝缘层，该绝缘层包括复数凹陷部，该画素电极均匀覆盖该绝缘层亦在该复数凹陷部凹陷。如申请专利范围第16项所述之液晶显示装置，其中，该画素电极包括藉由复数小节点电连接之复数次画素，该复数次画素对应该复数区域。如申请专利范围第17项、第18项或第19项所述之液晶显示装置，其中，构成该区域分割件之介电物质之介电常数小于构成该介电层之介电物质之介电常数。如申请专利范围第15项所述之液晶显示装置，其中，该区域分割件之平面图形系一轴对称图形。如申请专利范围第20项所述之液晶显示装置，其中，该区域分割件之平面图形系一轴对称图形。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中，该区域分割件进一步包括位于该画素单元边缘之第三部分。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中，每一画素单元进一步包括复数第二区域分割件，该第二区域分割件之介电物质之介电常数较该介电层之介电物质之介电常数大。如申请专利范围第24项所述之液晶显示装置，其中，该复数第二区域分割件分别位于该复数区域之中心。如申请专利范围第25项所述之液晶显示装置，其中，该复数第二区域分割件之平面图形系一轴对称图形。如申请专利范围第26项所述之液晶显示装置，其中，该复数第二区域分割件之平面图形系一圆形。如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板进一步包括复数相互平行之扫描线及复数相互平行且与该扫描线垂直绝缘相交之资料线，该复数画素电极位于该扫描线与资料线相交构成之最小矩形区域中。如申请专利范围第28项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元由该扫描线与资料线相交构成之最小矩形区域所界定。一种液晶显示装置，其包括：一第一基板，其包括一公共电极；一与该第一基板相对设置之第二基板，其包括复数画素电极；及一夹于该第一、第二基板之间之液晶层，其包括复数液晶分子；其中，该第一基板、第二基板及液晶层构成复数画素单元，每一画素单元包括至少一区域分割件，该区域分割件包括相互垂直之第一部分及第二部分，将该画素单元划分为复数区域，每一画素单元介于该公共电极及该画素电极之间，沿平行第二基板方向设置不同介电常数之介电物质产生倾斜电场，使该画素单元之液晶分子具多个取向。如申请专利范围第30项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元之液晶分子呈轴对称排列。如申请专利范围第31项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元之液晶分子以一中心轴线呈轴对称排列。如申请专利范围第32项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元之液晶分子呈正立伞状或倒立伞状之轴对称排列。如申请专利范围第30项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元之液晶分子呈固定取向之多域排列。如申请专利范围第34项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元之液晶分子呈四域取向排列，每一区域之液晶分子具一固定取向。如申请专利范围第30项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板进一步包括一介电层该介电层包括复数开槽，该区域分割件设于该开槽，该区域分割件之介电物质之介电常数与该介电层之介电物质之介电常数相异以产生倾斜电场。如申请专利范围第30项所述之液晶显示装置，其中，该第一基板进一步包括一介电层该介电层包括复数开槽，该区域分割件设于该开槽，该区域分割件之介电物质之介电常数与该介电层之介电物质之介电常数相异以产生倾斜电场。如申请专利范围第36项或第37项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元包括复数区域分割件，该复数区域分割件将该画素单元划分为复数区域，每一区域分割件设置与该区域之中心。如申请专利范围第38项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板进一步包括复数与区域边界对应之凹陷部，该画素电极均匀覆盖该第一基板亦在该复数凹陷部凹陷以产生该倾斜电场。如申请专利范围第38项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板进一步包括一绝缘层，该绝缘层包括复数与区域边界对应之凹陷部，该画素电极均匀覆盖该绝缘层亦在该复数凹陷部凹陷以产生该倾斜电场。如申请专利范围第38项所述之液晶显示装置，其中，该画素电极包括藉由复数小节点电连接之复数次画素，该复数次画素对应该复数区域，该画素单元藉由该次画素产生倾斜电场。如申请专利范围第36项所述之液晶显示装置，其中，构成该区域分割件之介电物质之介电常数小于构成该介电层之介电物质之介电常数。如申请专利范围第42项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元进一步包括第二区域分割件，该第二区域分割件亦设置于该介电层，第二区域分割件之介电物质之介电常数较该介电层之介电物质之介电常数大以产生倾斜电场。如申请专利范围第37项所述之液晶显示装置，其中，构成该区域分割件之介电物质之介电常数大于构成该介电层之介电物质之介电常数。如申请专利范围第44项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元进一步包括第二区域分割件，该第二区域分割件亦设置于该介电层，第二区域分割件之介电物质之介电常数较该介电层之介电物质之介电常数小以产生倾斜电场。如申请专利范围第30项所述之液晶显示装置，其中，该第二基板进一步包括复数相互平行之扫描线及复数相互平行且与该扫描线垂直绝缘相交之资料线，该复数画素电极位于该扫描线与资料线相交构成之最小矩形区域中。如申请专利范围第46项所述之液晶显示装置，其中，该画素单元由该扫描线与资料线相交构成之最小矩形区域所界定。