发明名称 Verwendung einer Schicht
摘要 Verwendung einer Schicht auf einer Oberfläche eines eisenhaltigen Substrats (2), hergestellt nach einem Verfahren zur Beschichtung des Substrats (2), bei dem mindestens ein Precursor (9) einem Arbeitsgas und/oder einem Plasmastrahl und/oder einer Flamme (10) zugeführt und im Plasmastrahl oder in der Flamme (10) zur Reaktion gebracht wird, wobei einer der Precursoren (9) Silizium oder eine Siliziumverbindung umfasst, wobei einer der Precursoren (9) Phosphor oder eine Phosphorverbindung umfasst, wobei eine Mischschicht mit einem tertiären System, das Phosphor, Silizium und Sauerstoff enthält auf der Oberfläche des Substrats (2) bei Atmosphärendruck abgeschieden wird, zum Korrosionsschutz des Substrats (2).
申请公布号 DE102008060923(B4) 申请公布日期 2012.09.27
申请号 DE200810060923 申请日期 2008.12.06
申请人 INNOVENT E.V. 发明人 SCHIMANSKI, ARND, DR.;GRUENLER, BERND DR.;PFUCH, ANDREAS DR.;HEFT, ANDREAS DR.;POLSTER, MARTIN
分类号 C23C16/453;C23C16/24;C23C16/28;C23C16/30 主分类号 C23C16/453
代理机构 代理人
主权项
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