| 摘要 |
1. Способ изготовления многоуровневой металлической микроструктуры с помощью ультрафиолетовой фотолитографии и гальванического осаждения, отличающийся тем, что он включает в себя следующие этапы: ! a) обеспечение подложки (1), которая имеет проводящую поверхность (2); ! b) покрытие проводящей поверхности (2) первым слоем фоточувствительной смолы (3); ! c) обработка первого слоя фоточувствительной смолы (3) с помощью излучения через маску (4), которая согласуется с требуемой фасонной выемкой; ! d) проявление первого слоя фоточувствительной смолы (3) для выполнения отверстий и, тем самым, получения первого уровня формы из смолы, при этом отверстие в первом слое смолы открывает проводящую поверхность (2) подложки; ! e) осаждение нового слоя фоточувствительной смолы (6) сверху проявленного слоя (3) смолы для закрывания последнего и для заполнения отверстий; ! f) обработка нового слоя (6) фоточувствительной смолы с помощью излучения через маску (7), которая согласуется с требуемой фасонной выемкой; ! g) проявление нового слоя (6) фоточувствительной смолы для выполнения отверстий и получения многоуровневой формы из смолы, при этом отверстия в многоуровневой форме открывают проводящую поверхность (2) подложки; ! h) гальваническое осаждение металла или сплава в отверстия многоуровневой формы из смолы; ! i) отделение подложки (1) и удаление слоев (3, 6) смолы для открывания многослойной металлической структуры (8), образованной вышеуказанным металлом или сплавом, полученным посредством осаждения в отверстия. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что после этапа b) он включает в себя этап образования проводящей поверхности (5) с отверстием на перв |
