| 摘要 |
Eine Lithographievorrichtung umfasst ein Strukturelement, einen Sensor (220) mit einem Erfassungsbereich (225) zur Erfassung einer physikalischen Größe in zumindest einer Erfassungsrichtung bezüglich des Strukturelements, und eine Sensoraufnahme (210) zur Halterung des Sensors (220) an dem Strukturelement, wobei der Sensor (220) derart angeordnet ist, dass bei einer Temperaturänderung der Sensoraufnahme (210) sich der Erfassungsbereich (225) im Wesentlichen nicht in der Erfassungsrichtung relativ zum Strukturelement verschiebt. |
