一种光学邻近修正方法

摘要

一种光学邻近修正方法，该方法包括，首先，建立工艺错误敏感图形数据库，确定其对应修正方案；然后对比电路图形和工艺错误敏感图形数据库，在电路图形中标记工艺错误敏感图形；接着，根据所述工艺错误敏感图形对应修正方案，修正所述电路图形中工艺错误敏感图；最后对修正后的电路图形进行光学邻近修正。本发明在对电路图形进行光学邻近修正前，加入检查和修正电路图形中工艺错误敏感图形的步骤，可以减少光学邻近修正所需的时间，使修正后的光罩图案符合电路图形设计要求。

主权项

一种光学邻近修正方法，该方法包括，根据理论计算的极限值和在OPC过程中经验积累的工艺错误敏感图形建立工艺错误敏感图形数据库，并确定所述数据库中的任一工艺错误敏感图形对应的修正方案；对比电路图形和所述工艺错误敏感图形数据库中的工艺错误敏感图形，确定电路图形中的所有工艺错误敏感图形，所述对比电路图形和所述工艺错误敏感图形数据库中的工艺错误敏感图形，确定电路图形中的所有工艺错误敏感图形的方法是，首先调用工艺错误敏感图形数据库中的某工艺错误敏感图形，所述工艺错误敏感图形数据库中的某工艺错误敏感图形表示具有一定范围的图形，把工艺错误敏感图形和电路图形中具有相同图形范围的部分电路图形逐个进行异或运算，然后把运算得到的形状不同的图形的面积除以所述部分电路图形的总面积，得到两个对比图形的容差，如果容差在预先设定容差范围内，就认为所述部分电路图形是工艺错误敏感图形；否则，认为其不是工艺错误敏感图形；根据所述工艺错误敏感图形对应的修正方案，修正所述电路图形中的工艺错误敏感图形，得到修正后的电路图形；输出修正后的电路图形到OPC修正流程，进行OPC修正。